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宮﨑宏基	pdf	2.28 MB	41

論文情報

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アイテムタイプ	学位論文
タイトル	酸化物光・電子素子構築のための高品質表面の形成
その他のタイトル	Fabrication of high quality surface of oxide crystal wafers for optoelectronic applications
著者	著者名 宮﨑, 宏基
	著者名 MIYAZAKI, Hiroki
言語	jpn
発行年	2012-03-24
著者版フラグ	Not Applicable (or Unknown)
学位授与年月日	2012-03-24
学位名	修士(工学)
学位授与機関	機関名 法政大学 (Hosei University)
キーワード	ZnO
	polishing
	single crystal
	planarization
	luminescence
内容記述	工学研究科物質科学専攻; 指導教授: 石垣隆正
抄録	Atomically flat oxide wafers with high crystallinity are required for development of oxide optoelectronics. In this study, effects of polishing conditions on quality of zinc oxide (ZnO) wafer surface were investigated for applications of ZnO wafers in optoelectronics. Combination of mechanical polishing (MP) and chemical mechanical polishing (CMP) were employed for planarization process, and defects and impurities introduced by those processes were characterized by photoluminescence and secondary ion mass spectroscopy, respectively. As a result, optimized polishing process for fabrication of ZnO wafers with low defect concentration was determined.
資源タイプ	Thesis
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