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論文情報

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アイテムタイプ	学術雑誌論文
タイトル	Leakage Loss and Phase Variation of a Buried Directional Coupler on a Silicon Substrate
著者	著者名 YAMAUCHI, Junji
	著者名 OSE, Kazuhiro
	著者名 SHIBAYAMA, Jun
	著者名 NAKANO, Hisamatsu
言語	eng
ISSN	10411135
出版者	IEEE
雑誌名	IEEE Photonics Technology Letters
	IEEE Photonics Technology Letters
号	17
開始ページ	1873
終了ページ	1875
発行年	2006-09-01
キーワード	Beam-propagation method (BPM)
	leakage loss
	leaky modes
	polarization dependence
	silicon substrate
抄録	Effects of the presence of a silicon substrate on the leakage loss and phase variation of silica-based parallel waveguides are investigated using the imaginary-distance beam-propagation method. The leakage loss is evaluated as a function of the distance between the core and the substrate. Calculation shows that the loss of the directional coupler can be estimated using the single waveguide with the same cross section. It is also found that the beat length becomes longer than that without the substrate except the case where the core is extremely close to the substrate. In terms of the loss reduction, the insertion of a SiO2. film with a 1-μm thickness corresponds to an increase in the distance between the core and the substrate without the SiO2. film by about 2μm.
資源タイプ	Article
書誌レコードID	AA10681067
インデックス	資料タイプ別 ＞ 学術雑誌論文 ＞ 自然科学
	301 学術雑誌論文 ＞ 自然科学

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