ようこそ ゲスト さん
ログイン
入力補助
English
カテゴリ
インデックスツリー
ランキング
アクセスランキング
ダウンロードランキング
その他
法政大学
法政大学図書館
インデックスツリー
資料タイプ別
学術雑誌論文
人文科学
社会科学
自然科学
このアイテムのアクセス数:
140
件
(
2025-02-12
01:05 集計
)
Permalink : https://hdl.handle.net/10114/232
閲覧可能ファイル
ファイル
フォーマット
サイズ
閲覧回数
説明
Ose
pdf
181 KB
214
論文情報
ファイル出力
アイテムタイプ
学術雑誌論文
タイトル
Leakage Loss and Phase Variation of a Buried Directional Coupler on a Silicon Substrate
著者
著者名
YAMAUCHI, Junji
著者名
OSE, Kazuhiro
著者名
SHIBAYAMA, Jun
著者名
NAKANO, Hisamatsu
言語
eng
ISSN
10411135
出版者
IEEE
雑誌名
IEEE Photonics Technology Letters
IEEE Photonics Technology Letters
号
17
開始ページ
1873
終了ページ
1875
発行年
2006-09-01
キーワード
Beam-propagation method (BPM)
leakage loss
leaky modes
polarization dependence
silicon substrate
抄録
Effects of the presence of a silicon substrate on the leakage loss and phase variation of silica-based parallel waveguides are investigated using the imaginary-distance beam-propagation method. The leakage loss is evaluated as a function of the distance between the core and the substrate. Calculation shows that the loss of the directional coupler can be estimated using the single waveguide with the same cross section. It is also found that the beat length becomes longer than that without the substrate except the case where the core is extremely close to the substrate. In terms of the loss reduction, the insertion of a SiO2. film with a 1-μm thickness corresponds to an increase in the distance between the core and the substrate without the SiO2. film by about 2μm.
資源タイプ
Article
書誌レコードID
AA10681067
インデックス
資料タイプ別
 > 
学術雑誌論文
 > 
自然科学
301 学術雑誌論文
 > 
自然科学
ホームへ戻る